各種基盤装置製造の株式会社二宮システムの現像装置ページ各種基盤装置製造の株式会社二宮システムの現像装置ページ

ページトップへ
製品情報
企業情報
品質・環境について
新着情報
採用情報
お問い合わせ
個人情報保護方針

現像装置

現像装置

最適なノズル配置とオシュレーションで高精度な現像を実現

自動建浴・液管理システムにより品質向上とコストダウンを両立。
高密度化による、より高精度なL/Sを実現。
薄板搬送対応可能。

用途

ドライフィルム、ソルダーレジスト液状レジストの現像

仕様例

装置寸法(L×W×H)    :    6300 × 1475 × 1200 mm
基板サイズ(有効幅)    :    610mm
処理液    :    炭酸ナトリウム
搬送速度    :    0.06~6m/min
パスライン    :   
操作方式    :   

ライン構成例

現像装置 ライン構成例


※薬液により、装置材質が異なります。
※その他特殊仕様に対してもお気軽にご相談ください。

前のページへもどる

CompanyArrow
COMPANY
二宮システム企業情報
RecruitArrow
RECRUITMENT
二宮システム採用情報
Copyright©2024 株式会社二宮システム